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2014年口腔醫(yī)師綜合筆試必備知識點精選(19)

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釉質(zhì)的組織學結(jié)構(gòu)

  釉柱

  與釉柱排列方向相關(guān)的結(jié)構(gòu)

  釉質(zhì)中有機物集中之處

  與釉質(zhì)周期性生長相關(guān)的結(jié)構(gòu)

  一、釉 柱 enamel rod

  (一)概念

  釉質(zhì)的基本結(jié)構(gòu),是一種細長的柱狀體,起自釉牙本質(zhì)界,呈放散狀貫穿釉質(zhì)全層。路線不是徑直的。

  (二)分布特點

  窩溝處:釉質(zhì)由釉牙本質(zhì)界向窩溝底集中。

  牙頸部:釉柱排列基本呈水平狀。

  (三)形態(tài)

  光鏡(磨片)

  縱斷面:柱狀體;彎曲狀。

  橫斷面:魚鱗狀。

  釉柱間隙:釉柱尾部與相鄰釉柱頭部相交處呈現(xiàn)參差不齊的增寬了的間隙。

  釉柱鞘(enamel rod sheath) :釉柱頭部清晰的弧形邊界

  二、與釉柱排列方向相關(guān)的結(jié)構(gòu)

  (一)絞釉(gnarled enamel)

  分布:釉質(zhì)內(nèi)2/3彎曲;牙切緣及牙尖處彎曲更明顯。

  作用:增強釉質(zhì)對咬合力的抵抗。

  (二)施雷格線 (Schreger line)

  落射光觀察牙縱磨片:可見寬度不等的明暗相間帶.這些明暗帶稱為施雷格線 .

  分布:釉質(zhì)內(nèi)4/5處.

  原因:釉柱排列方向的規(guī)律性改變而產(chǎn)生的折光現(xiàn)象.

  暗區(qū)—釉柱的橫斷區(qū);

  亮區(qū)—釉柱的縱斷區(qū).

  (三)無 釉 柱 釉 質(zhì)(rodless enamal)

  分布:在近釉牙本質(zhì)界最先形成的釉質(zhì)和多數(shù)乳牙及恒牙表面約30μm處,均看不到釉柱結(jié)構(gòu). 高分辨率電鏡下可見晶體平行排列。

  原因:內(nèi)層:可能是成釉細胞在最初分泌釉質(zhì)時,Tomes突尚未形成.

  外層:可能是成釉細胞分泌活動停止及Tomes突退縮所致.

  提示: Tomes突形成的重要性.

  三、釉質(zhì)中有機物集中之處

  釉質(zhì)牙本質(zhì)界 enamelo-dentinal junction

  釉板 enamel lamella

  釉叢 emamel tuft

  釉梭 enamel spindle

  1. 釉質(zhì)牙本質(zhì)界 enamelo-dentinal junction

  外形:呈貝殼狀,非直線。由許多圓弧形構(gòu)成,凸面向著牙本質(zhì),凹面向著牙釉質(zhì)。

  作用:增大二者的接觸面,加大了釉質(zhì)在牙本質(zhì)上的附著。

  2. 釉板 enamel lamella

  光鏡:垂直于牙面的薄層板狀結(jié)構(gòu),可以貫穿整個釉質(zhì)的厚度。磨片上呈裂隙狀。

  原因:可能是局部牙釉質(zhì)成熟的缺陷,鈣化不全,水分和釉質(zhì)基質(zhì)的殘留。

  3. 釉叢 emamel tuft

  光鏡:起自釉牙本質(zhì)界向牙表面散開,呈草叢狀。其高度相當于釉質(zhì)的1/5~1/4

  分布:較均勻。

  原因:在Tomes突形成和釉質(zhì)沉積階段,一部分礦化較差的釉柱,有機物含量高。

  4. 釉梭 enamel spindle

  光鏡:起始于釉牙本質(zhì)界,呈紡錘狀結(jié)構(gòu),黑色。

  分布:牙尖及切緣部較多見。

  原因:一般認為它是成牙本質(zhì)細胞胞漿突起的末端膨大突入釉質(zhì)中形成。

  四.與釉質(zhì)周期性生長相關(guān)的結(jié)構(gòu)

  (一)橫紋 cross striations

  是釉柱上與釉柱的長軸相垂直的線,透光性低.

  呈規(guī)律性分布,間隔2~6um.使釉柱看起來像梯子.

  原因:

  與成釉細胞每天的周期性形成有關(guān),代表每天形成的速度.

  可能反映釉柱中有機物、無機物在含量和密度上的變化;碳酸鹽和納含量呈周期性變化,與橫紋吻合;

  可能代表晶體緊密堆積間穿插著有機物的聚集;礦化低。

  (二) 生長線 incremental line

  橫磨片:呈深褐色同心環(huán)狀,似樹的年輪。

  縱磨片:自釉牙本質(zhì)界向外,沿著釉質(zhì)形成的方向,在牙尖部呈環(huán)行排列,近牙頸部部漸成斜行線.

  原因:

  是釉質(zhì)周期性的生長速率改變所形成的間歇線。約代表5~10天釉質(zhì)沉積的速度

  寬度和間距因發(fā)育狀況變化而不同.

  新生線 neonatal line

  定義:在乳牙和第一恒磨牙上,常見的一條加重的生長線.

  原因:釉質(zhì)一部分在胎兒期形成,另一部分在嬰兒出生后.

  電鏡:晶體密度減低.

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